光氧催化工藝詳解過程

 

uv光氧催化廢氣處理設(shè)備：光催化氧化技術(shù)是在光化學氧化技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的.光化學氧化技術(shù)是在可見光或紫外光作用下使有機污染物氧化降解的反應過程.但由于反應條件所限,光化學氧化降解往往不行完全,易發(fā)生多種芳香族有機中間體,成為光化學氧化需求戰(zhàn)勝的問題,而經(jīng)過和光催化氧化劑的結(jié)合,能夠******進步光化學氧的效率.

 

依據(jù)光催化氧化劑運用的不同,能夠分為均相光催化氧化和非均相光催化氧化.

 

均相光催化降解是以Fe2+或Fe3+及H2O2為介質(zhì),經(jīng)過光助 – 芬頓反應發(fā)生羥基自由基使污染物得到降解.紫外光線能夠進步氧化反應的作用,是一種有用的催化劑.紫外/臭氧(UV/03)組合是經(jīng)過加快臭氧分化速率,進步羥基自由基的生成速度,并促進有機物構(gòu)成很多活化分子,來進步難降解有機污染物的處理效率.

 

光氧催化廢氣處理設(shè)備非均相光催化降解是運用光照耀某些具有能帶結(jié)構(gòu)的半導體光催化劑如TiO2、ZnO、CdS、WO3、SrTiO3、Fe2O3等,可誘發(fā)發(fā)生羥基自由基.在水溶液中,水分子在半導體光催化劑的作用下,發(fā)生氧化才能極強的羥基自由基,能夠氧化分化各種有機物.把這項技術(shù)使用于POPs的處理,

 

能夠獲得杰出的作用,可是并不是一切的半導體材料都能夠用作這項技術(shù)的催化劑,比方CdS是一種高活性的半導體光催化劑,可是它容易發(fā)生光陽極腐蝕,在實踐處理技術(shù)中不太有用.而TiO2可運用的波長***可達387.5nm,價格便宜,***都條件下不溶解,耐光,無毒性,因而TiO2得到了廣泛的使用.